ET2000化学气相沉积
仪器名称： ET2000化学气相沉积
仪器类型： CVD设备
应用领域： 专利技术保证高质量石墨烯生长，成熟工艺程序。
技术指标：
1、全套石英器件，4条独立控制气路（氩气、氢气、高、低流量甲烷），气体泄漏探测器。2、独立三温区，最高温度1100℃，恒温均匀性小于0.5℃。3、不小于98%面积的单层石墨烯。4、100mtorr至500torr真空可控，最低真空50mtorr，单独常压尾气排气管路。5、衬底大小：≤50mm×50mm或2英寸。
仪器品牌： CVD
仪器型号： ET 2000
仪器厂家： 美国江杰公司
仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台
