仪器名称： JC500-3D 磁控溅射机

仪器类型： 镀膜设备

应用领域： 主要用沉积金属膜和非金属膜。

技术指标：

极限真空8×10-4Pa；两个直径为100mm的磁控靶；一套直流靶电源，功率为1KW；一套13.56MHZ的射频电源，功率为1KW；样品尺寸：≤4英寸。

仪器品牌：

仪器型号： JC-500-3/D

仪器厂家： 成都真空机械厂 

仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台

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