仪器名称： 4473微控扩散炉

仪器类型： CVD设备

应用领域： 供4英寸硅片氧化、退火等工艺使用。

技术指标：

最高温度：1150℃；
恒温区长度：760mm；
最大可控升温速度（400℃～ 1150℃）：15℃/min;
最大降温速度（1150℃～ 900℃）：5℃/min。

仪器品牌： 七星华创

仪器型号： L4513Ⅱ-53/2m

仪器厂家： 北京七星华创电子股份

仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台

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