仪器名称： Q150 等离子体去胶机 

仪器类型： 光刻&键合设备

应用领域： 可以基片表面活化，可去除不同厚度的光刻胶。

技术指标：

主腔室材料：石英；主腔室容积：6升；主腔室尺寸：直径150mm,深度260mm；工艺压力：1-100Pa；样品大小≤4英寸。

仪器品牌： Alpha

仪器型号： Q150 

仪器厂家： Alpha Plasma 

仪器设备所属平台： 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台

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