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ET2000化学气相沉积


仪器名称: ET2000化学气相沉积

仪器类型: CVD设备

应用领域: 专利技术保证高质量石墨烯生长,成熟工艺程序。

技术指标:

1、全套石英器件,4条独立控制气路(氩气、氢气、高、低流量甲烷),气体泄漏探测器。2、独立三温区,最高温度1100℃,恒温均匀性小于0.5℃。3、不小于98%面积的单层石墨烯。4、100mtorr至500torr真空可控,最低真空50mtorr,单独常压尾气排气管路。5、衬底大小:≤50mm×50mm或2英寸。

仪器品牌: CVD

仪器型号: ET 2000 

仪器厂家: 美国江杰公司 

仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台


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