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JC500-3D 磁控溅射机


仪器名称: JC500-3D 磁控溅射机

仪器类型: 镀膜设备

应用领域: 主要用沉积金属膜和非金属膜。

技术指标:

极限真空8×10-4Pa;两个直径为100mm的磁控靶;一套直流靶电源,功率为1KW;一套13.56MHZ的射频电源,功率为1KW;样品尺寸:≤4英寸。

仪器品牌:

仪器型号: JC-500-3/D

仪器厂家: 成都真空机械厂 

仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台


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