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Alcatel深硅刻蚀系统


仪器名称: Alcatel深硅刻蚀系统

仪器类型: 刻蚀设备

应用领域: 硅深槽刻蚀。

技术指标:

适用于4英寸及以下尺寸的硅片刻蚀;使用气体有:SF6,C4F8,O2;掩膜材料可以是光刻胶和氧化硅;刻蚀深宽比20:1以内;同时兼有常温BOSCH工艺和低温CRYO工艺。

仪器品牌: 阿尔卡特

仪器型号: AMS200 

仪器厂家: ALCATEL

仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台


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