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SI500 电感耦合等离子刻蚀机


仪器名称: SI500 电感耦合等离子刻蚀机

仪器类型: 刻蚀设备

应用领域: 特别适用于刻蚀在半导体(例如硅)衬底上的微纳结构和介质膜。

技术指标:

1、本底真空:<1x10-6mbar(7.6x10-4mTorr)。2、6路气体:六氟化硫、三氟甲烷、氩气、氧气、氮气(吹扫用)、氦气(背冷却用)。3、样品通过预真空室装载,碎片需使用载片器(托盘)。取-放系统保证了衬底操作的洁净与安全。预真空室有可编程的吹扫循环工艺、确保操作者安全和腔室洁净。4、一个射频发生器(13.56 MHz, 600 W)用于下电极偏置,另一个用于驱动ICP源(13.56 MHz, 1200 W)。5、样品尺寸:≤9英寸。

仪器品牌: SENTECH

仪器型号: SI 500 

仪器厂家: SENTECH公司 

仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台


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