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JS3X-100B 溅射台


仪器名称: JS3X-100B 溅射台

仪器类型: 镀膜设备

应用领域: 主要用于沉积金属膜。

技术指标:

1.极限真空8.0×10-4Pa。2.三个直径为100mm的磁控靶,靶基距为8cm不可调。3.一套直流靶电源,功率为2KW。一套13.56MHZ的射频电源,功率为1.5KW。4.工件转盘转速0-20转/分可调。5.适合4英寸及以下各种规格基片。

仪器品牌:

仪器型号: JS3X-100B 

仪器厂家: 北京创威纳科技有限公司

仪器设备所属平台: 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院 微电子/石墨烯加工测试平台


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